高斯光勻化的微透鏡陣列有區別于傳統光學元件的結構，所以微透鏡陣列具有較多的優異效果。微透鏡陣列較為常見的應用有：高斯光整形，高斯光勻化，激光勻化，波前探測，光纖耦合，激光切割等。而這其中，激光勻化，高斯光整形，高斯光勻化是較為常見的。因為，無論是用于激光加工，還是照明領域，光纖耦合，高斯光勻化都可以大大的提高效果和過程的可控性。然而市面上微透鏡陣列品類繁多，參數復雜，廠家各異。那么該如何基于自己的激光勻化要求，挑選合適的微透鏡陣列呢？本文就雙陣列的勻化方案，如果選擇用于高斯光勻化整形的微透鏡陣列做了簡要介紹。

雙微透鏡激光勻化的高斯光整形方案光路圖如下：

LA1、LA2、FL和FP從左而右分別是微透鏡陣列1、微透鏡陣列2、聚焦鏡和成像焦面。從上圖可見，微透鏡陣列的結構為平凸結構，平面相對，凸面即帶有微透鏡的結構對外。入射待勻化整形的高斯激光從左邊經準直后入射到微透鏡陣列。兩片高斯光勻化微透鏡陣列的子單元口徑保持或接近。微透鏡陣列之間的間隔越等與微透鏡陣列1的焦距，一般是略大于。微透鏡陣列與聚焦鏡FL的距離會略微影響出勻化光斑的發散角，但是影響不大，一般選型計算時忽略不計。實際操作中可調整這個距離以微調微透鏡陣列的效果和大小。末端即為微透鏡陣列高斯光勻化的效果端面。

微透鏡激光勻化光斑大小關系如下式所示：（p_LA為透鏡陣列的子單元口徑大小）

D_FT=p_LA·f_FL·（f_LA1+f_LA2-a₁₂）/(f_LA1·f_LA2)

在上光路所示的條件下，a₁₂=f_LA2，上式可以化簡如下：

D_FT= p_LA·f_FL/ f_LA2

所以，依據公式可以較為簡答的得出需要的微透鏡陣列參數范圍和目標方向。假定，需要的勻化要求是：在300mm出形成10*10mm的方形光斑。那么便有：D_FT=10mm，f_FL=300mm，帶入公式，可計算得出微透鏡陣列的口徑與焦距的比值：p_LA/f_LA2=0.03333。如果是矩形，則計算長短邊分別計算一次。

理論上，微透鏡口徑越小，勻化效果越好。但是太小的口徑，會有衍射干擾，硬性的勻化效果反而沒有那么好。所以，一般建議選型的時候，口徑可以稍微放大一些。微透鏡的口徑需求確定了，邊可以對應這pLA/fLA2=0.03333計算出對應的焦距應該是多少，也邊可以得到可以接受的微透鏡參數范圍。

在光路中，微透鏡末端的聚焦鏡主要的作用是提高勻化效果，調整高斯光勻化的位置和尺寸大小，并非必要的。如果需要的光斑在遠處或者尺寸較大，可以撤去。

需要注意的是，因為選用的是周期性微透鏡陣列，所以對光源本身有一定要求。如果是M²較小，相干性高的光源，微透鏡陣列的高斯光整形勻化效果反而沒那么好。這種光源，推薦使用衍射性的整形勻化元件，可以達到很高的勻化性。當然，也可以先將光通過散射片，在入射到微透鏡陣列勻化鏡組，但是效果性價比不高，一般情況不推薦。

雙片微透鏡陣列的使用過程中，特別需要主要的是兩片陣列的中心對齊。這個可以通過旋轉鏡片，微小移動進行調節。因于微透鏡陣列面積精度和光源質量的原因，勻化光斑會帶有一定的散斑，這個是正常現象。由于散斑較弱，一般不影響使用。而消除散斑對精度要求比較高，花費較大，性價不高。這是微透鏡陣列整形的常見現象，無論是國內外的產品均如此。